発明特許

• 特開2008-014699：電解処理における膜厚測定方法及び膜厚測定装置
• 特開2007-271465：磁界分布計測装置
• 特開2007-270320：分極曲線測定方法及び電解処理装置
• 特開2007-212326：電位差計測装置および電位差計測方法
• 特開2007-139466：近接場光顕微鏡、近接場光イメージング方法
• 特開2007-046933：蛍光画像検出方法、蛍光画像検出基盤
• 特開2006-234389：光位相分布測定方法
• 特開2006-018393：境界要素解析方法、及び境界要素解析プログラム
• 特開2005-345161：モーションキャプチャーシステム
• 特開2005-331440：光位相分布測定方法及び測定システム
• 特開2004-334301：数値解析装置及び方法
• 特開2004-334266：画像表示装置
• 特開2001-152397：めっき解析方法
• 特開2000-275206：腐食・防食解析方法
• 特開2000-146847：クラスタリング及びボロノイ分割を利用した ニューラルネットワークを用いた穀類粒判別装置
• 特開2000-111510：腐食・防食解析方法
• 特開2000-105192：ボロノイ分割を利用したニューラルネットワークを用いた 穀類粒判別装置
• 特開平11-160271：電気防食場のシミュレーション解析方法及び装置
• 特開平11-037967：腐食・防食解析方法
• 特開平07-332916：膜厚計